会社沿革

昭和39年 1月 資本金240万円にて、現在地に創立する。
クロム・ニッケル・銅・亜鉛等のめっき加工を開始する。
併せ簡易廃液処理施設を設置する。
昭和42年 3月 半自動十連回転めっき装置を導入し、亜鉛めっきの自動化を図る。
昭和42年 4月 硬質銀めっきの開発に成功し、ロータリースイッチ等のめっきを始める。
昭和45年 4月 公害防止のため塩素電解法によるシアン分析装置を設置し、
公害の除去に努める。
無電解ニッケルめっきを開始する。
昭和46年12月 全自動31連回転めっき装置を設備し、亜鉛めっきの増産体制を整えると
共に併せ、省力化を図る。
資本金480万円に増資する。
公害防止のため、クラリファイヤー等を新設備する。
昭和49年 1月 タングステン上への無電解ニッケルめっきを始める。
昭和53年 4月 錫・半田めっきを建浴し、電子部品のめっきを開始する。
昭和57年 1月 水晶発振管への光沢及び無光沢無電解ニッケルめっきを始める。
昭和63年 5月 全自動亜鉛めっき装置を導入し、酸性浴を開始する。
非破壊式めっき厚測定機(ダーメス)を導入する。
昭和64年 1月 精密測定の為、Ⅹ線膜厚測定機を導入し、Ni-Bを始める。
平成 2年11月 無電解黒色ニッケルめっきを開始、資本金1,000万円に増資する。
平成 5年 9月 SII製X線膜厚測定機を微小品測定のために導入する。
平成 7年 3月 全自動無電解ニッケルめっき装置(25連)を設備する。
平成10年 9月 自己資本増強の為、資本金を2,000万円に増資する。
平成12年 2月 PTFEめっきを始める。
平成12年 4月 無電解ニッケル2号機導入
平成12年 6月 無電解ニッケルめっきの低濃度鉛添加浴(400ppm以下)を開発する。
平成14年12月 クロムフリーを達成し、RoHS規制対象物質クリアーとなる。
平成15年10月 PTFEめっきライン増設、ボイラー更新する。
平成16年 2月 400℃対応の4点式ベーキング炉を増設する。
平成16年10月 PTFEライン増設する。
平成17年 8月 公害防止設備を更新する。
平成18年 8月 排気洗浄塔を増設する。
平成20年12月 X線膜厚測定機を更新する。
平成22年 8月 PTFEめっきライン増設する。
平成24年8月   全自動無電解ニッケルめっき(鉛フリー液)を導入する
 平成24年10月  グループ会社NAKTPをフィリピン共和国ルソン島に設立する。

会社近景